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半导体行业专用氮气发生器(腔体保护气，干泵吹扫气)
NITROGEN-M-100/200
Peculiar针对LC/MS氮气流量、纯度、压力的特殊要求专门设计了安全、高效、方便的专用于
PECULIAR(UK)INSTRUMENT TECHNOLOGY LIMITED英国普拉勒科技有限公司LC/MS氮气发生器，产生纯度高达99.5%的洁净、干燥氮气，符合半导体行业腔体保护气，干泵吹扫气
要求，包含APCI及ESI接口。氮气发生器采用膜分离技术，无须二次净化，即可连续获得洁净、干
燥、无邻苯二甲酸酯的氮气，氮气纯度和流量稳定，使用寿命长。外置涡旋压缩机提高了空气供应
的安全性，流速范围从0-100L/min,可同时为一台或多台仪器供应氮气。特殊机型可以定制，最
大流速范围可以达到200L/min。
主要技术参数|
MAIN TECHNICALPARAMETERS
◎流量：0-100/200L/min@100psi(7bar)
◎工作环境：5C-40℃湿度80%
◎使用最高海拔：2200m
◎露点：<-55℃
◎颗粒：<0.01μm
◎滞留液体：无
◎邻苯二甲酸：无
◎噪声：<47dB(A)
◎开机纯化时间：30min
◎功率：8000W
◎电力要求：220V50Hz
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